プラズマCVD装置
利用状況 | 設備利用・予約可 |
---|---|
対応分野 |
|
使用目的 |
|
メーカー | サムコインターナショナル(株) |
型式・番号 | |
導入年度 | 2000年度 |
ポイント・仕様 |
膜の種類:SiO2 薄膜材料:TEOS、NH3 |
用途 | 酸化シリコン膜の形成 |
活用事例 | |
利用上の注意 | |
使用料(県内)円/時間 | 1290 |
使用料(県外)円/時間 | 1930 |
設置場所(所属名) | 産業技術研究開発センター |
担当機関 | ものづくり研究開発センター |
郵便番号 | 〒933-0981 |
所在地 | 富山県高岡市二上町150 |
TEL | 0766-21-2121 |
FAX | 0766-21-2402 |
備考 | ガス等原材料費の実費を別途徴収します。 |