ナノインプリンティング装置
本装置では、超微細加工技術によって作製されたナノレベル(1ナノメートル=10億分の1メートル)の凹凸が形成された金型(モールド)をもとに、ワーク上に超微細パターンを転写形成することが可能です。
利用状況 | 設備利用・予約可 |
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対応分野 |
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使用目的 |
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メーカー | ズース・マイクロテック(株) |
型式・番号 | SUSS MicroTec MA6 SCIL |
導入年度 | 2010年度 |
ポイント・仕様 |
・ UV(紫外線硬化)インプリント方式 ・ マスクアライナー(アライメント精度:±1μm以下) ・ レプリカモールド(PDMS)方式採用による低コスト化 ・ 大面積(φ6inch Max.)のインプリントに対応 ・ 高い均一性 |
用途 |
ナノインプリント技術は、次世代半導体デバイス製造代替技術(リソグラフィー)、光学デバイス(LED、マイクロレンズ)、大容量ストレージメディア(高記録密度化)、ディスプレイ(有機ELディスプレイ)、太陽電池(全波長吸収加工)、バイオ・医療デバイス技術(μTAS、細胞チップ)への応用が検討されています。 また、次世代自動車、携帯電話などのディスプレイ、燃料電池関連などへの応用も期待されます。 |
活用事例 | |
利用上の注意 | |
使用料(県内)円/時間 | 2010 |
使用料(県外)円/時間 | 3010 |
設置場所(所属名) | 産業技術研究開発センター |
担当機関 | ものづくり研究開発センター |
郵便番号 | 〒933-0981 |
所在地 | 富山県高岡市二上町150 |
TEL | 0766-21-2121 |
FAX | 0766-21-2402 |
備考 | 本設備は、独立行政法人 科学技術振興機構(JST)地域産学官共同研究拠点整備事業で導入しました。 |